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目前，上海微電子可以實現90奈米光刻機的量產，而ASML的光刻機已經達到7奈米和5奈米。 好訊息是，上海微電子將在2021年交付中國第一臺28奈米光刻機，這可以取得進展，縮小與ASML的差距。 上海微電子有限公司（SMEE）是中國唯一的光刻機制造商。
上海微電子光刻機: 京東方聯姻光刻膠龍頭欣奕華 大陸半導體業吹起反攻號角？
他總結，項目規模龐大、發展年期較長、建築成本及利息支出高企都影響發展商入標意欲。 黃光耀說，近期港元拆息已回落至約2厘的溫和水平，未見市場對加息特別憂慮。 他說，去年資金在高息環境下觀望，隨著不少停留在高息定存的資金陸續釋放，加上存息明顯回落，資金尋找出路下有機會重新流入樓市及股市，較樂觀的情況更可承接全年一手住宅供應量，相信今年新盤需求會回復正常。 會德豐旗下位於藍田的項目，新一期將於明日開價，首批單位涉及不少於80伙。
或許是因為全球缺芯導致EUV設備的需求量暴漲，但很大一部分原因來自於市場格局的變化。 據公開資料顯示，今年ASML向國內市場傾銷了約40台光刻設備，重點是，這些都是即將淘汰的壓箱底舊貨ASML不僅達到了快速變現的目的，而且還有效地擠壓了國內中低端光刻廠商的發展空間。 令人振奮的是，中科院、清北高校等科研機構紛紛挺身而出，將光刻技術攻關列入緊急任務清單；承擔重任的上海微電子、以及號稱「光刻機第一股」的華卓精科也均加大了研發投入。 隨著容器的興起和迅速發展，Kubernetes（K8s）應運而生，現在不僅京東、阿里、谷歌、百度等大公司在使用，就連中小型企業也開始把業務遷移到了k8s上。 K8s在如下圖的領域中佔據了重要的地位，數萬的企業和用戶都選擇使用K8s。
上海微電子光刻機: 指領空曾現氣球型飛行物 日本防衛省：強列推測為中國偵察氣球
市場上上海微電子封裝光刻機也表現優秀，在國內市場份額達到了80%左右，在全球市場份額也達到了40%左右。 與動輒3~4億美元的EUV光刻機相比，這款封測光刻機售價僅為1800萬元每台，利潤上也有不少差距。 當然，我們一直在朝著方向去努力，並且也取得了一些成績，早些時候上海微電子的90nm光刻機就下線了，可以通過2次曝光生產出45nm的晶片，這也是我們中國如今最先進的光刻機。 他指出，對於全球大型晶片製造廠商而言，28奈米晶片技術已經非常成熟，產能已有些過剩。
- 科大訊飛介紹，公司於2022年獲得CommonsenseQA 2.
- 上海微电子本身起步就晚，而且不论是在人员数量、营收规模，还是研发投入上，与ASML都有着巨大的差距。
- 不知道二手車查事故記錄怎麼查的時候，可以藉助一些二手車查詢事故車軟體來進行二手車查詢。
- 居於兩者中間位置的14奈米顯然成為了中堅力量，成為絕大多數中高端晶片的主要製程。
- EUV是極紫外光的意思，光刻就是在已經切割好的晶圓上覆蓋一層光刻膠，用極紫外線把多層線路圖刻在晶圓上。
- 阿斯麥爾CEO溫彼得親自訪問韓國，似乎有意和韓國加強在半導體方面的合作。
- 在封测环节使用的设备被称为后道工艺设备，可分为测试设备和封装设备。
它之所以這麼說，主要是擔心國家實現光刻設備自主化後，衝擊到它的市場地位，想讓我們知難而退罷了。 目前，中國半導體產業面臨被「卡脖子」等問題，並非只是簡單的光刻機技術發展慢的緣故，而是未形成一條完整的國產化半導體產業鏈，而這個需要國產半導體企業在國策的助力下努力一環一環攻克才行。 上海微電子光刻機 雖然我國正舉全國之力在攻克半導體產業存在「卡脖子」的領域，但短時間内國產光刻機技術想追上阿斯麥、佳能及尼康等擁有十幾二十年技術沉澱的大廠，難度是不小的。 此外，即使擁有了相應的技術，相關國產零部件等產業鏈技術也要跟得上才行。 反觀國内市場，目前中國只能生產出90納米的光刻機設備，這也是生產國產光刻機的最高技術水平。 這也導致目前我國光刻機只能從阿斯麥、佳能及尼康手中購買。
上海微電子光刻機: 國產28奈米光刻機是什麼情況？
面對光刻機遲遲不能發貨，我們也隻剩下一條路可以走，那就是走技術自主研發的道路，面對歐美國傢的技術限制，導致瞭華為的麒麟芯片停產，中芯國際訂購的EUV光刻機，至今也沒有傳出任何出貨的消息，這也直接阻礙瞭國內先進制程工藝的發展。 還需要引進行業內的頂尖人才，著力發展國內一流的光刻機，打破國外的技術壟斷。 面對許多領域的商業壟斷，上海微電子將成為國際品牌的典範，讓更多的企業認識到，只有關心民族企業，獨立自主，自力更生，才能與對手對抗。
- 三星加碼晶圓廠投入，年內將在P4和德州工廠建設試產線。
- 文章裡提到，到2020年產品將與整機單位共同完成28nm國產光刻機的整合工作。
- 2020年7月，新核芯科技封測項目開工建設，12月項目主體完成封頂，並開始內部裝修；2021年7月舉行了裝機儀式，並開始按裝調試設備，12月實現量產；從開工到量產僅用了17個月的時間，創造了同行業的建廠奇蹟。
- 掩膜板只有6英寸，曝光比例為四比一，曝光區域僅為26×33mm。
- 上月CPI按月由升轉跌，跌幅0.6%，受到運輸及食肆等相關價格下跌推動，但部分被煙酒價格上升抵銷。
- 未來，全球半導體的格局，將會發生變化，遷移到中國也是不無可能，因為這裡既有光刻機產品，也有光刻機市場，因為中國是世界半導體需求量最大的需求方，無人能夠替代。
在這些上到新黑名單的公司中，有21家還受到進一步限制——外國直接產品規則（FDPR）——禁止外國公司向中國實體銷售採用美國技術或設備生產的商品，其中包括上海微電。 總體來看，ASML不忍捨棄國內市場是真，但不想看到我們實現高精尖光刻設備的自主化也不假。 上海微電子光刻機 但對於國產企業而言，即便ASML真的做到了EUV的自由出貨，國家也絕對不能放棄自主研發的腳步。 不能否認光刻設備技術的研發的確很難，畢竟該設備有約10萬個精密零件，有5000多家全球供應商，可真讓ASML給我們個圖紙試試？
上海微電子光刻機: 美元
隨後在12月5日，聯合新聞網等臺媒報道稱，在青島正式投產的富士康集團第一座晶圓級封測廠，引進多達46臺上海微電子的28nm光刻機。 報道稱，該光刻機8月完成技術檢測和認證，意味着上海微電子的光刻機實現從90nm到28nm的跨越。 12月5日，臺灣《經濟日報》和聯合新聞網同時發佈報道稱，11月26日在青島正式投產的富士康集團首座晶圓級封測廠，引進多達46臺上海微電子生產的光刻機，並同時稱這意味着大陸生產的光刻機實現從90nm到28nm的跨越。 根据上海微电子官网资料显示，目前其已量产的光刻机主要有 SSX600 和 SSX500 两个系列。 对于半导体制造产线来说，光刻机是芯片制造最为核心的关键设备之一。 而目前在光刻机领域，主要被荷兰ASML、日本佳能和尼康所垄断，三家厂商合计占据了约99%的市场份额。
也就是说，上海微电子目前最先进的光刻机所能制造最先进的芯片制程只能到90nm，而目前ASML最先进的EUV光刻机已可以被应用于3nm的芯片制造。 ASML的CEO皮特.溫寧克曾提醒美國：如果我們一直在半導體領域對中國進行封鎖，只會讓他們在半導體領域的自主研髮變得更加強大。 面對疫後國內中小微型企業倒閉、全球通貨膨脹、升息不斷、俄烏戰爭再起、中國經濟不振、全球消費力大減與製造業減產等全球經濟衰退的險峻情勢，… 也就是說，科益虹源的準分子鐳射器將會配套到上海微電子的光刻機中，而這臺計劃中的光刻機可以實現28奈米工藝。 它是一篇來自江蘇省開發區協會曾經發布的文章，標題為：科益虹源積體電路光刻光源製造及服務基地專案開工。 文章裡提到，到2020年產品將與整機單位共同完成28nm國產光刻機的整合工作。
上海微電子光刻機: 中國首台國產光刻機交付投入使用，上海微電子20年研發的成果！
光刻產業鏈可拆分爲兩個部分，一是光刻機核心組件，包括光源、物鏡、雙工作臺、浸沒系統等關鍵子系統，二是光刻配套設施，包括光刻膠、光掩模版、塗膠顯影設備等。 觀察者網查詢上海微電子官網發現，該公司光刻機產品分爲用於IC前道製造的600系列光刻機和用於IC後道先進封裝的500系列光刻機。 其中，600系列光刻機最新型號SSA600/20的分辨率爲90nm，而500系列光刻機的最小分辨率爲1μm。 有資深半導體行業人士告訴觀察者網，傳統的封裝過程用不到光刻機，只有晶圓級的先進封裝纔會用到光刻機。 相對於IC製造用光刻機，封裝所用光刻機的研發難度要小很多，市場空間也更小，但後發的光刻機廠商可以先在封裝領域進行積累。 觀察者網查證後發現，富士康與青島國資合資設立的半導體封測項目，今年7月便已開始引進上海微電子的光刻機。
其中，國產半導體設備技術與發達國家領先的半導體設備技術存在差距最為顯著。 當時的美國政府將 EUV 技術視為推動本國半導體產業發展的核心技術，並不太希望外國企業參與其中，更何況是八九十年代在半導體領域壓了美國風頭的日本。 但EUV曝光機又幾乎逼近物理學、材料學以及精密製造的極限。 光源功率要求極高，透鏡和反射鏡系統也極致精密，還需要真空環境，其配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高。 別說日本與荷蘭，就算是美國，想要一己之力自主突破這項技術，可以說是比登天還難，畢竟美國已經登月了。
上海微電子光刻機: 國產光刻機的困境
中國目前無法製造先進的芯片，例如用於最新智能手機的芯片，主要是因為中國無法生產最先進的光刻機，而該領域目前由荷蘭公司阿斯麥（ASML Holding）主導。 上海微電子，更廣為人知的名稱是SMEE，是中國唯一一家能夠生產用於高端半導體開發的先進光刻設備的中國公司，在中共芯片自給自足計劃中占據重要地位。 中國目前無法製造先進的晶片，例如用於最新智能手機的晶片，主要是因為中國無法生產最先進的光刻機，而該領域目前由荷蘭公司阿斯麥（ASML Holding）主導。 上海微電子，更廣為人知的名稱是SMEE，是中國唯一一家能夠生產用於高端半導體開發的先進光刻設備的中國公司，在中共晶片自給自足計劃中佔據重要地位。 雖然28納米的光刻機即將實現國產化，據說可以通過多重曝光的工藝，來實現14納米或7納米的晶元製造。
光刻機是芯片製造產線上最核心的設備，全球能夠獨自生產的只有四家企業，分別是荷蘭的ASML、中國的上海微電子，以及日本的尼康、佳能。 但是，在中高端光刻領域，比如DUV、EUV光刻機，ASML則是獨一檔的存在，幾乎壟斷了市場。 無可否認，近十年時間里，中國經濟高速增長無不讓全世界其他國際為之驚歎的，甚至在個别領域也實現了「拐彎超車」，遠超部分歐洲國家。 但是，因為中國進入高質量發展時間短的緣故，在一些高科技緊密領域還與發達國家仍存在一定差距，還需要很長的時間「補課」。
上海微電子光刻機: 缺乏外國供應商協助 中共自給自足幾無可能
而荷蘭的阿斯麥公司在技術上領先於日本的公司，擁有了大量光刻機訂單，日本公司沒有訂單逐漸衰敗。 上海微電子光刻機 中荷蘭的阿斯麥公司，也就一舉成為了全世界最大的光刻機製造商，各國的光刻機幾乎都是從阿斯麥公司進口。 而且， 阿斯麥公司也是目前世界上唯一一家可以生產EUV光刻機的公司，什麼是EUV光刻機呢？
另外，2022年2月13日，根據ETNews報道，2019年到2021年，阿斯麥爾在美國的銷售額直接就是逐年下降，2019年有19。 83億，短短三年的時間，阿斯麥爾在美國的銷售額直接下降了20%。 也就是說，即便是在DUV光刻機上，ASML的產能遠遠不夠解決客戶的需求，溫寧克為此還特意指出，ASML只能滿足DUV光刻機需求的60%。
上海微電子光刻機: 上海微電子正式交付中國首台光刻機
在美國對中國進行芯片制裁，限制光刻機進口的強大壓力下，中國頂住壓力 迎難而上，走上自主研發的道路。 科研人員攻堅克難 辛勤研究，國家全力支持 投資數百億，終於研製出28納米的刻光機。 上海微電子光刻機 上海微電子光刻機 離阿斯麥的光刻機製造技術還有一些差距，但是隨着中國高新技術的不斷發展，中國國力的不斷增強以及中國對高精尖技術發展的大力支持。 相信終有一天，中國的光刻機技術，一定會超越阿斯麥公司，中國的芯片製造技術，也將會走到世界的前列。 眾所周知，現代社會是信息化的社會，人們的生活都離不開電子科技，特別是近幾年，隨着新型產業的發展，芯片在整個行業中，扮演着重要角色。
上海微電子光刻機: 上海臨港新片區全年固投目標逾300億元
上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称SMEE）是中国大陸半导体装备制造商，主要生產半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。 2022年2月14日，全球半導體協會公佈了一則資料，根據這份資料可知，目前全球半導體銷售額達到了5559億美元，其中我國就貢獻了1925億美元，從中可知，我國對於晶片的需求還是比較龐大的，對於EUV光刻機的需求想必也是不小的。 誠然，EUV光刻機確實有著它的特殊性，因為只有荷蘭製造商ASML可以製造，而比EUV光刻機稍低一個等級的DUV光刻機，供應商還是比較多的，除了ASML，還有日本的尼康、佳能，以及我國的上海微電子。
上海微電子光刻機: 上海貴酒發展公司支付2.41億元與天音通信達成和解
荷蘭ASML最先進的EUV光刻機，90%的關鍵零部件都需要進口。 其中，計量設備和光源來自美國、鏡頭和精密儀器來自德國、軸承來自瑞典等等。 可是這些精密儀器和配件均對我國禁運，也就是說，上海微電子要製造28納米的光刻機，需要等待國內供應鏈的成熟。
其中 Arf 光刻机全部由 ASML供应，佳能主要供应技术难度相对较低的 g线、i 线光刻机及少部分KrF光刻机。 上海微電子光刻機 中國科技起步較晚，所以在很多領域都被西方國家所樹立的技術壁壘阻礙了發展，而中企為了能夠快速提升業績，擁有好看的營收數據，選擇了以買代造的方式。 如果未來中國的光刻機真正研發成功，到那時國外可能就真的完全失去中國龐大的芯片市場，國際芯片的競爭會更加激烈。
但臺媒混淆了前道製造用光刻機和後道封裝用光刻機，青島封測項目所用光刻機屬於封裝光刻機，並不用於芯片製造。 據相關消息報導，這條生產線地處合肥，並且已經運營一年多，在短短的一年時間內聯合國內相關單位已經生產出了3套自研的量子芯片專用設備，並且還生產了1500多個批次流片試制的產品，以及不少量子放大器和量子芯片。 不過，內媒引述上海電氣相關負責人報道，該公司從今年開始的「十四五」（第14個5年規劃）期間，將繼續承擔多項國家「卡脖子」技術之「攻關」任務，除了光刻機外，還有重型燃氣輪機、高端數控機床、快堆、船用曲軸、大型鑄鍛件、航空工業等。 上海微電子光刻機 受去年底中國河南鄭州工廠因新冠疫情封控停產，導致蘋果（Apple，美：AAPL）在三年半以來首次錄得季度收入下跌，該公司正尋求減少生產線對中國的依賴。
上海微電子光刻機: 芯片自主可控深度解析
相比於旗艦手機樣樣都是高配，但偶爾也有不足的情況，次旗艦更為謹慎，一般會是一個沒有弱點的水桶機，提供全面的體驗。 這就像坐在一架超音速飛機上，透過另一架飛機上的針孔穿線。 SMEE高度重视员工的职业发展,设置了专业技术系列、系统工程系列、业务管理系列等三类职业发展通道，员工可结合自己的职业规划选取合适的职业发展通道，实现自身职业成长与公司持续发展的双赢。 有消息显示，2019年底，华卓精科的浸没式光刻机双工件机台已经刚通过了02专项的CDR里程碑评审，研发和试产基地也完成了建设。 浸没液体相比于传统气体介质具有较高粘度，粘性力的增强，使得压力驱动下浸没液体对投影物镜的作用力将变得越来越不可忽视。 作用在物镜表面的应力如果过大将使物镜产生变形和位移，并引起双折射与光路失真，如缺乏有效控制，将造成曝光成像的缺陷。
上海微電子光刻機: 全球光刻机市场分析
SMEE今年年初已經交付了首台2.5至3維先進封裝光刻機，但分析人士稱，封裝光刻機用於晶圓封裝，屬於芯片製造的後道工序。 隨著國產光刻機的快速進展，ASML已經開始緊張了，ASML高管就表示如果限制它對中國出售DUV光刻機，那麼中國遲早會研發出先進的光刻機，它擔憂的正是中國的光刻機將會搶占它的市場。 到那時，雖然我們還是沒有EUV光刻機，但是可以大規模布局成熟製程工藝晶片產能，通過自給自足積累大量的晶片製造經驗，等到EUV光刻機突破，中國將成為當之無愧的晶片強國。 江蘇一家中國企業崑山同興達公司傳來消息，首台上海微電子光刻機順利搬入，預計3月完成設備調試，之後再進行樣品試製，5月份開始量產。
上海微電子光刻機: 上海微電子之後，大族激光成功破冰，接進式光刻機已投入市場
上海微电子本身起步就晚，而且不论是在人员数量、营收规模，还是研发投入上，与ASML都有着巨大的差距。 要想缩短与ASML的差距，这并不仅仅只是提升自身的系统集成能力就能够实现的，还需要配套的上万个零部件的制作水平跟上，这也就需要成百上千家的零部件供应商的共同努力。 而在众多的半导体设备当中，光刻机可谓是最为关键的设备。 但是，造光刻机并不是一件简单的事情，系统集成只是一方面，更为关键的是，其中需要用到非常多的关键器件，而这并不是一家或几家厂商就能搞定的。 在中美科技战、贸易战的背景之下，中国半导体产业被美国“卡住了脖子”，而这其中最为关键的一环就是半导体设备，华为就是因为台积电、中芯国际等晶圆代工厂被美国禁止利用基于美国技术的半导体设备为华为代工，直接导致了华为自研芯片的断供。 目前上海微电子的光刻机已可以应用于集成电路产业链中晶圆制造、封装测试，以及平板显示、高亮度 LED 等领域。
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可尷尬的是，中國高端芯片還是非常少，現在用的高端芯片，大部分都是外國進口。 比如用來製造高端芯片的光刻機，就被荷蘭的阿斯麥公司牢牢的把控在手裏。 這突然之間，冒出來一個國家，不僅不懼怕它老大的身份，而且還要超越它，這讓美國感受到了威脅，於是 為了遏制中國科技的發展，美國開始對中國芯片實施制裁，限制對中國的高端芯片供應。 中國的中興科技，就是因為美國忽然之間，不對中興公司提供芯片。 當時的中興總裁，甚至連夜坐飛機到美國進行談判，但是美國態度傲慢 毫不鬆口，中興已經無力迴天，這導致中興一蹶不振，從此失去了在通訊行業的巨頭地位。 這件事給中國很大的打擊，也讓中國意識到芯片只依靠外國進口，就像是把自己的命脈交到外國手裏，想要不受外國的威脅和遏制，只有走上自主創新的道路，研發出中國自己的芯片，而研發芯片的關鍵技術，就是光刻機。
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目前對於國產光刻機的研發，我們已經加快瞭腳步，目前已經取得瞭眾多的技術突破，目前由華卓精研發的光刻機雙工件臺技術，已經被上海微電子運用於國產光刻機的研發當中瞭，上海微電子在整機集成技術上，也已經取得瞭非常不錯的成績。 今天，上海微電子需要加快研發進度，加大科研投入，加強科研隊伍建設，全面追趕ASML，努力縮小差距，最終超越ASML。 作為中國唯一的光刻機制造商，上海微電子必將全面支援中芯國際和華為。 大客戶每年都需要為ASML提供研發資金，而AMSL的先進光刻機也會首先供應給大客戶。